Oprava xxxxxxxx Xxxxxx x xxxxxxxxx xxxxxxxxx (XX) 2019/2199 xx xxx 17. xxxxx 2019, xxxxxx xx xxxx xxxxxxxx Xxxx (XX) č. 428/2009, xxxxxx xx zavádí xxxxx Xxxxxxxxxxxx xxx xxxxxxxx xxxxxx, xxxxxxxx, xxxxxxxxxxxxxxx x xxxxxxxx xxxxx dvojího užití
( Xxxxxx xxxxxxx Xxxxxxxx xxxx X 338 xx dne 30. xxxxxxxx 2019 )
Strana 129, bod x xx xxxxxxxxx xxxxx:
|
„x.
|
xxxxxxxxxxxx xxxxxxxx:
|
1.
|
xxxxxxxxxxx x krokovací xxxx krokovací x xxxxxxx xxxxxxxx xx xxxxxxxxxx xxxxxxxx xxxxxxxxxx xx xxxxxxx xxxxxxxxxxxxx xxxx xxxxxxxxxxxx xxxxx, xxxxx xxxx xxxxxxxx x xxxxxx vlastností:
|
a.
|
vlnová xxxxx xxxxxxxxxx zdroje xxxxxx než 193 xx; xxxx
|
|
x.
|
xxxxxxxxx exponovat xxxxxxx x ‚velikostí xxxxxxxxxx rozlišitelného xxxxx‘ (XXX) 45 xx xxxx xxxxx;
Xxxxxxxxx xxxxxxxx: ‚Xxxxxxxx nejmenšího xxxxxxxxxxxxxx xxxxx‘ se vypočítá xxxxx vzorce:  |
|
|
2.
|
xxxxxxxx xxx xxxxxxxx xxxxxxxxxx xxxxxxx vyrábět struktury x xxxxxxxxx 45 xx xxxx menší;
Poznámka: Xxxxxxx 3B001.f.2. zahrnuje:
|
—
|
mikrokontaktní xxxxxxx xxxxxxxx
|
|
—
|
xxxxxxxx xxx xxxxxx xx tepla
|
|
—
|
nástroje xxx nanotiskovou litografii
|
|
—
|
nástroje xxx tiskovou litografii xxxxxxxxx „Xxxx xxx xxxxx“ (X-XXX)
|
|
|
3.
|
Xxxxxxxx speciálně xxxxxxxxxxxx xxx xxxxxx xxxxx, xxxxx xxxx xxxxxxx xxxx xxxxxxxxxx:
|
x.
|
xxxxxxxxx xxxxxxxxxxxxx zaostřeného elektronového xxxxxxx, xxxxxxxxx xxxxxxx xxxx „laserového“ xxxxxxx; x
|
|
x.
|
xxxx některou x xxxxxx xxxxxxxxxx:
|
1.
|
xxxxx paprsku x šířce x xxxxxxxx xxxxxx (full-width xx xxxx xxxxxxx (XXXX)) menší xxx 65 nm a xxxxxxxx xxxxxx xxxxx xxx 17 nm (xxxxx + 3 xxxxx); nebo
|
|
3.
|
chyba překrytí xxxxx xxxxxx xxxxxxx xxxxx než 23 xx (xxxxx + 3 sigma);
|
|
|
|
4.
|
zařízení konstruovaná xxx zpracování součástek xx xxxxxxx xxxxx xxxxxxx xxxxxx, která xxxx všechny tyto xxxxxxxxxx:
|
x.
|
xxxx vychylovaný xxxxxxxxx xxxxxxxxxxx paprsek; x
|
|
x.
|
xxxx xxxxxxxx z těchto xxxxxxxxxx:
|
1.
|
xxxxxxxxx xxxxxxxx xxxxxxx xxxxxxx 15 nm; xxxx
|
|
2.
|
xxxxx xxxxxxxx menší xxx 27 nm (xxxxxxx xxxxxxx + 3 xxxxx);“
|
|
|
|
